キヤノン(株)【7751】の掲示板 2024/04/25〜2024/05/06

今月から富士フイルムがキャノンに納入するナノインプリント向けのレジストは、ナノインプリントの最大の弱点といわれる離型時の回路パターンの欠損と、離型時間の長さからくるスループット（生産性）の悪さを同時に解決するまさに画期的な材料です。ナノインプリントはASMLのEUV露光装置と比べて一桁安くしかも光学系の関連装置も必要がなく、消費電力も10分の1程度ということもあってキャノン、富士フイルム連合でASMLを追撃、凌駕していくのではないでしょうか。