smamka

前から言ってますが4500円を超えてくると一気に買い戻しが入り始めますよ。

2023/10/11 Barclays Bank 空売り残高割合1.110% 増減率+0.180% 残高数量14,827,223株 　増減量+2,365,980
買戻しが入り始めますよ。

キャノンのナノインプリント（NIL）技術がASLMにとって替わるゲームチェンジャーになる可能性を熱く語ってきましたが、一方で光学における次世代の革命と言われるメタレンズ製造のキーテクノロジーとしてNIL技術が欠かせないということが言われています。キャノンのNILが半導体、光学の両分野で画期的な変革をもたらす可能性があります。大袈裟ではなく、とんでもないことになるのではないでしょうか。

キャノンが発表した自社株買いは3300万株で買付金額の上限は1000億円ですが、この値動きだと平均買い付け価格は6000円、買い付け株数は1700万株弱になると思います。どちらにしても消却せずに金庫株として買収資金に充当するので益々楽しみですね。

ファーウェイ、SKハイニクス、マイクロンと半導体メーカーが続々とNILの採用を決定、検討をしているということはASLM独占のEUV露光装置の分野に明らかに風穴を開けているのは間違いありません。株価も来週あたりから大きく動き出してくるのではないでしょうか。5000円を超えてくると積み上がった空売りの買い戻しが一気に入ってくるような気がしてます。

SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D（3次元）NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。

　半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線（EUV）露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。

SKハイニックスに詳しい関係者は「既存のArF液浸露光装置では数回パターニングを行わなければならないため、工程の数が増え、生産コストが増大する」とした上で、「通常4回のマルチパターニングが必要な既存工程に比べ、ナノインプリント露光装置がコスト面ではるかに優れていることはある程度確認された」と説明した。

ナノインプリント露光装置が商用化されれば、SKハイニックスをはじめとするNAND型フラッシュメモリー業者は、200層台からますます工程の難度が高まっている3D NAND型フラッシュメモリーの分野で生産性を高めることができるとみられる。3D NAND型フラッシュメモリーでは積層数を増やすためにあらゆる化学薬品処理で表面を低くすることがカギだが、200層を超えるとその部分がますます難しくなっている

いよいよビッグニュースが出てきましたね。

Nanoimprint finds a real semiconductor application.

Micron shared a talk yesterday on how NIL could be used for certain DRAM layers. They set this up by showing a trend where what's called "chop" layers are increasing for DRAM nodes and going below the resolution for immersion lithography. These patterning steps remove the dummy structures from the periphery of the dense memory arrays.

The shapes of the pattern for these layers are often difficult to print for optical lithography due to the nature of the optical system. In addition, the overlay requirements are much more relaxed than for other layers in the stack. Given that the NIL tool may be as much as 5x cheaper than an immersion scanner, this makes for a very good value proposition for Nanoimprint Lithography's debut into the leading-edge semiconductor space.

NIL fits this well because it has:
1) Resolution well below immersion lithography
2) No geometry or shape restrictions
3) Relaxed overlay performance versus a scanner
4) lower-cost tool option

日証協発表の貸し株残高が先週末比984万株増えて6094万株になっています。全てが空売りではないと思いますが８割方は空売りに供されていると思われます。来週から面白いことになりますよ。取り敢えず5,000円抜けを目指しましょう。

日証協発表のキャノンの貸付残高は約5100万株ありますがその内訳はJPモルガン425万株、JP MORGAN securities 513万株、三菱UFJモルガン714万株、Barclay bank　1482万株等々　という機関投資家の大口の空売りの存在が明らかになりました。これに自社株買い3300万株（取得上限金額は1000億円）が加わる訳ですからナノインプリントどうのこうのと言うよりも取り組みだけで大変なことになりますね

ナノインプリントの革新性が半導体製造メーカーに認知され始めた可能性があります。ASLMの独占が崩れ始めたとすればここ数年の半導体業界にとっては最大のトピックスと言っていいでしょうね。少なくともArFドライとArF液浸の露光装置でシェアを2分するASLMとニコンの技術を凌駕していることは間違いありません。いずれにしても大きな変革が起きていることだけは確かなようです。

これから証券各社がキャノンのレーティングを5000円以上に上げてくるでしょうね。

ファーウェイがキヤノンの「ナノインプリント半導体製造装置」導入か

最先端の半導体を製造するのに欠かせないASMLの「EUV露光装置」を輸入できないなど、アメリカから厳しい制裁を受けているにもかかわらず、自前で7nmプロセスのプロセッサ「Kirin 9000s」製造にこぎ着けたHuawei。
搭載第1弾となるスマホ「Mate 60/60 Pro」が中国でiPhoneの売上を大きく脅かすほど成功していますが、さらなる飛躍のために日本の最新技術が注目を集めているようです。。
海外メディアの報道によると、アメリカ政府がHuaweiおよび中国の半導体製造会社「SMIC」の技術が向上することを強く警戒しているそうです。
これはアメリカ当局の人間が語ったとされるもので、Huaweiスマホの性能がiPhoneに近づくのを懸念しているとのこと。
そんな中で注目を集めつつあるのがキヤノンが10月に発表したナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」。
Huaweiが実用化しつつある5nmプロセスだけでなく、マスク（型）の改良により2nmまで期待されるこの装置は、EUVを使わないため制裁下の中国に出荷できる可能性があります。
UVを使わないまま5nmプロセスの実用化を目指すも、歩留まり（良品率）に苦しむHuaweiにとって有力な選択肢となるナノインプリント半導体製造装置。
半導体製造装置分野で高いシェアを占めていたものの、EUV露光装置でASMLに大きく水をあけられてしまったキヤノンにとっても中国勢は唯一獲得できる可能性がある大口顧客で、両者の利害関係は一致している部分があります。
調査会社Gartnerのアナリスト、Gaurav Gupta氏が「近いうちにアメリカが中国への禁輸対象に加える」と予測するなど、ナノインプリント半導体製造装置が米中対立で一躍スポットを浴びていますが、日本の半導体復権にも関わるだけに、目が離せそうにありません。

専門的な話になりますがナノインプリントはいずれはASLMのEUV露光装置と比肩することになると思いますが、まずは圧倒的な経済性でArFドライとArF液浸の露光装置で世界シェアを独占するASLMとニコンを駆逐してしまう可能性があります。ナノインプリントの革新性はまさに革命と言っていいほどの技術なんです。

ナノインプリントを織り込んだらここの株価はどなたかが言われてましたが２万円を超えてきますよ。

以下は昨年５月の記事ですが韓国SKハイニックス以外にも採用拡大が期待されています。いずれにしてもキャノンは大きな夢のある銘柄です。


韓国SKハイニックス、キヤノン製の半導体露光装置を導入…「3D NANDを高度化」
SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D（3次元）NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。
　半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線（EUV）露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。
　次世代の露光技術として脚光を浴びてきたナノインプリント露光装置は、ナノパターンが刻まれたスタンプを使い、まるで印鑑を押すようにシリコンウエハー上にナノパターンを転写するのが特徴だ。
　液体である紫外線感光液をシリコン基板上にコーティングした後、透明なスタンプを接触させ圧力を加えるとスタンプとの間にパターンが形成される。その後、光を投射してパターンを固体化する。安価な紫外線を光源として使用し、レンズを使わないため、従来のフッ化アルゴン（ArF）液浸露光装置や最高2000億ウォン（200億円）もするEUV露光設備を使用するよりも経済的とされている。

　既存のArF設備で形成できる回路線幅の物理的な限界値は38ナノメートルにとどまる。主要半導体メーカーは、ArF液浸露光装置で回路パターンを2回または3回かけて形成するダブルパターニング技術を導入し、20ナノメートル以下にまで微細化を進めてきた。しかし、マルチパターニング工程を導入すると、生産時間が長くなり、蒸着やエッチングなどに使う設備の導入も増やさなければならない。それがスペースを取るため、生産ライン全体の生産量が減るデメリットが大きい。
　SKハイニックスに詳しい関係者は「既存のArF液浸露光装置では数回パターニングを行わなければならないため、工程の数が増え、生産コストが増大する」とした上で、「通常4回のマルチパターニングが必要な既存工程に比べ、ナノインプリント露光装置がコスト面ではるかに優れていることはある程度確認された」と説明した。
　ただ、ナノインプリント露光装置もまだ完全なものではない。同関係者は「EUVと比較してパターン形成の自由度が落ちるため、一定のパターンを維持するNAND型フラッシュメモリーの生産に優先的に採用される見通しだ。SKハイスが設備調達に乗り出したのもそのためだ」と付け加えた。

　ナノインプリント露光装置が商用化されれば、SKハイニックスをはじめとするNAND型フラッシュメモリー業者は、200層台からますます工程の難度が高まっている3D NAND型フラッシュメモリーの分野で生産性を高めることができるとみられる。3D NAND型フラッシュメモリーでは積層数を増やすためにあらゆる化学薬品処理で表面を低くすることがカギだが、200層を超えるとその部分がますます難しくなっている。

　一方、ライバル会社のサムスン電子もマルチパターニング工程導入によるコスト上昇問題を解決するため、いち早く極EUV露光設備を導入し、それ以外にナノインプリント露光装置を含む3－4種類のソリューションを開発しているとされる。

ファン・ミンギュ記者

日証協の貸付残高が先週比３０３万株減少して５１１０万９６９２株となりましたね。空売り筋が継続して買い戻してますね。５０００円を超えてくると一気に買い戻してくるでしょね。

>キャノンは何かの弾みでとてつもない株価に変身する様な気がします。
>それだけの魅力のあるキャノンです。
ナノインプリントに関する何らかのニュースだ出れば５桁に向けて一直線ですよ。

国の最重要施策でもある食糧安全保障の一翼を担う企業として売上高3000億円を超える規模でEPS125円を稼ぎ出す会社の時価総額が400億円そこそこというのはあり得ない訳です。200億円で経営権を取得出来てしまうんですから。今の経営規模だと時価総額1000億円あたりが妥当なところでしょう。

後場1066円抜きますよ。