投稿一覧に戻る キヤノン(株)【7751】の掲示板 2024/04/25〜2024/05/06 625 ycx***** 4月26日 11:06 >>576 半導体メモリー製品に仕上げるには数十もの露光工程が必要。ASMLの EUV露光は独擅場だが全体の数工程にしか使用されない。つまりi線露光装置やKrF露光装置を抜きに最先端半導体は製造できないのだ。Canonはi線露機の8割、KrFの3割を占めている。 TSM、Samsung には多数Canonの露光機が稼動しているNikon やCanon が露光機で完敗という表現は当たらない。Canonナノインプリント露光機に期待！！ 関連記事（日経XTECH) Canon ナノインプリント他露光機pdf.pdf そう思う33 そう思わない0 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る
>>576
半導体メモリー製品に仕上げるには数十もの露光工程が必要。ASMLの EUV露光は独擅場だが全体の数工程にしか使用されない。つまりi線露光装置やKrF露光装置を抜きに最先端半導体は製造できないのだ。Canonはi線露機の8割、KrFの3割を占めている。 TSM、Samsung には多数Canonの露光機が稼動しているNikon やCanon が露光機で完敗という表現は当たらない。Canonナノインプリント露光機に期待！！
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