キヤノン(株)【7751】の掲示板 2024/03/21〜2024/04/24

従来型の微細加工では、微細化が進むほど消費電力が増加する傾向にあり、ASMLのEUVを用いた最小線幅5nmのウェハ1枚の製造に一般的な家庭の約4ヵ月分の電力を消費するとも言われています。
半導体製造では想像を遥かに超える量の電力を使用します。
台湾のＴＳＭＣ工場の電力使用量は、２０２２年時点で台湾の総電力需要の６％を占め、２０２８年には１３％にまで増加し、４５０億kWh もの電力消費量になると予測されている。これは台中の原子力発電所３基、火力発電所１０基に相当すると言われています。
それに比べてナノインプリント法は最小線幅を微細化するポテンシャルに加えて、消費エネルギーをEUV使用時の実に約1/10まで下げる効果も期待されています。
世界の名だたる半導体メーカーがナノインプリントに強烈な興味を示している理由がわかると思います。