投稿一覧に戻る 大日本印刷(株)【7912】の掲示板 2023/03/15〜 479 smamka 3月29日 10:54 大日本印刷株式会社は、2nm世代ロジック半導体のEUV(極端紫外線)リソグラフィ(露光)向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。 同社では、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2nm世代の開発をすでに開始している。さらなる微細化のニーズに応えるため、2024年度中には2台目と3台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働させるなど、開発を本格化するという。 今後は、2025年までに2nm世代向けの開発を完了し、2027年度の量産開始に向けた生産技術の確立を進める。さらに、2nm世代以降を見据え、次世代EUV向けフォトマスクの共同開発に関する契約をimecと締結した。 今年中に5桁間違いないね。 返信する そう思う42 そう思わない12 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る
smamka 3月29日 10:54
大日本印刷株式会社は、2nm世代ロジック半導体のEUV(極端紫外線)リソグラフィ(露光)向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。
同社では、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2nm世代の開発をすでに開始している。さらなる微細化のニーズに応えるため、2024年度中には2台目と3台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働させるなど、開発を本格化するという。
今後は、2025年までに2nm世代向けの開発を完了し、2027年度の量産開始に向けた生産技術の確立を進める。さらに、2nm世代以降を見据え、次世代EUV向けフォトマスクの共同開発に関する契約をimecと締結した。
今年中に5桁間違いないね。